根據路透社獨家披露,中國正在深圳一座高度保密的實驗室內,打造一項美國多年來極力阻止的關鍵技術——極紫外光(EUV)光刻機。這套設備是製造最先進 AI、手機與軍用晶片的核心工具,目前幾乎完全由西方掌控。
根據多名知情人士說法,這台 EUV 原型機已於 2025 年初完成組裝,目前正在測試階段,佔地接近一整個工廠樓層。雖然尚未成功量產晶片,但已能穩定產生 EUV 光源,這本身就是重大突破。
為何 EUV 這麼重要?
EUV 光刻機能用極短波長的紫外光,在矽晶圓上刻出比頭髮細上數千倍的電路。電路越細,晶片效能越強。目前,全球只有荷蘭 ASML 一家公司能量產 EUV...