根據路透社獨家披露，中國正在深圳一座高度保密的實驗室內，打造一項美國多年來極力阻止的關鍵技術——極紫外光（EUV）光刻機。這套設備是製造最先進 AI、手機與軍用晶片的核心工具，目前幾乎完全由西方掌控。
根據多名知情人士說法，這台 EUV 原型機已於 2025 年初完成組裝，目前正在測試階段，佔地接近一整個工廠樓層。雖然尚未成功量產晶片，但已能穩定產生 EUV 光源，這本身就是重大突破。
這些工程師多為已退休或離職的華裔技術人員，被高額獎金與補助吸引回國。有些人進入計畫時，甚至被要求使用假名與假證件，在高度隔離的環境中工作，外界完全無法得知其身分與任務內容。
目前最大瓶頸在於精密光學系統。ASML 的關鍵零件來自德國蔡司（Zeiss），中國難以複製同等精度。不過，中國研究機構已成功將 EUV 光源整合進原型系統，使其「能運作」，只是仍需大量優化。
官方目標是 2028 年做出可用晶片，但內部人士認為 2030 年較為現實——即便如此，也遠早於過去分析師預估的 10 年以上。
在晶片與 AI 成為國力核心的時代，這場技術競賽顯然還會持續升溫，而且不只關乎科技，更牽動全球產業與地緣政治的未來走向。
根據多名知情人士說法，這台 EUV 原型機已於 2025 年初完成組裝，目前正在測試階段，佔地接近一整個工廠樓層。雖然尚未成功量產晶片，但已能穩定產生 EUV 光源，這本身就是重大突破。
為何 EUV 這麼重要？
EUV 光刻機能用極短波長的紫外光，在矽晶圓上刻出比頭髮細上數千倍的電路。電路越細，晶片效能越強。目前，全球只有荷蘭 ASML 一家公司能量產 EUV 設備，單台售價高達 2.5 億美元，是 NVIDIA、AMD、台積電、三星等先進晶片不可或缺的關鍵。中國怎麼做到的？
這個計畫被形容為中國版的「曼哈頓計畫」，由政府主導，華為負責整合供應鏈與研究單位，動員數千名工程師。其中關鍵在於——大量前 ASML 工程師的加入。這些工程師多為已退休或離職的華裔技術人員，被高額獎金與補助吸引回國。有些人進入計畫時，甚至被要求使用假名與假證件，在高度隔離的環境中工作，外界完全無法得知其身分與任務內容。
技術仍有差距，但時間點提前了
ASML 執行長曾公開表示，中國要自行做出 EUV 可能還要「很多很多年」。但這個原型的出現，顯示中國可能比外界預期提前數年接近目標。目前最大瓶頸在於精密光學系統。ASML 的關鍵零件來自德國蔡司（Zeiss），中國難以複製同等精度。不過，中國研究機構已成功將 EUV 光源整合進原型系統，使其「能運作」，只是仍需大量優化。
官方目標是 2028 年做出可用晶片，但內部人士認為 2030 年較為現實——即便如此，也遠早於過去分析師預估的 10 年以上。
靠「二手設備」與拆解逆向工程
在美國與盟國的出口管制下，中國無法合法取得 EUV 或部分 DUV 設備，只能透過：- 回收舊款 ASML 設備
- 二手市場購入零件
- 透過中介公司轉手採購
- 拆解 Nikon、Canon 等設備逆向研究
華為全面參與，工程師住在實驗室
華為在這項計畫中幾乎無所不在，從晶片設計、設備、製造到產品整合都參與其中。部分工程師長期住在實驗室內、工作日不得返家、手機受限，團隊彼此隔離，避免洩密。不是追上了，但已不再遙不可及
這台 EUV 原型機距離商用仍有不小差距，但它代表一件事——中國已不再只是「追趕者」，而是開始真正碰觸 EUV 這道門檻。在晶片與 AI 成為國力核心的時代，這場技術競賽顯然還會持續升溫，而且不只關乎科技，更牽動全球產業與地緣政治的未來走向。
