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Intel 總裁兼 CEO Paul Otellini 於舊金山 IDF 論壇上宣佈, Intel 在 32 奈米制程上取得了重大突破,並在現場展示了業內第一款 32 奈米晶片,將超過四百萬個電晶體集成在僅有小數點大小的面積內, Intel 預期 32 奈米將於 2009 年下半年開始量產。
據 Paul Otellini 表示, Intel 成功打造第一款使用下一代 32 奈米制程技術製造的 300 毫米晶圓,這些先進測試晶片的成功開發標誌著英特爾在下一代 32 奈米制程技術規模製造方面取得的重大成就,並帶來最先進的製造技術,實現業內持續領先
據了解, Intel 在大會所展示的 32 奈米測試晶片,是邏輯和靜態隨機存取記憶體( SRAM ),集成電晶體數量超過 19 億個,使用英特爾第二代高 -k 與金屬柵極電晶體技術,每個記憶位元的晶格面積為 0.182 平方微米,整體裸晶面積為 118 平方毫米,總記憶容量達 291Mbits ,內擁有 PROM 陣列、高速暫存器檔案(暫存器集合群)、高速 I/O 電路、高頻相鎖迴路與時脈電路,最底端則是離散、分離式的測試結構,容納了超過 10 億個電晶體。
詳 : http://www.hkepc.com/?id=156
據 Paul Otellini 表示, Intel 成功打造第一款使用下一代 32 奈米制程技術製造的 300 毫米晶圓,這些先進測試晶片的成功開發標誌著英特爾在下一代 32 奈米制程技術規模製造方面取得的重大成就,並帶來最先進的製造技術,實現業內持續領先
據了解, Intel 在大會所展示的 32 奈米測試晶片,是邏輯和靜態隨機存取記憶體( SRAM ),集成電晶體數量超過 19 億個,使用英特爾第二代高 -k 與金屬柵極電晶體技術,每個記憶位元的晶格面積為 0.182 平方微米,整體裸晶面積為 118 平方毫米,總記憶容量達 291Mbits ,內擁有 PROM 陣列、高速暫存器檔案(暫存器集合群)、高速 I/O 電路、高頻相鎖迴路與時脈電路,最底端則是離散、分離式的測試結構,容納了超過 10 億個電晶體。
詳 : http://www.hkepc.com/?id=156