處理器 Intel 改用新製程節點命名, 10nm SuperFin = "Intel 7"

soothepain

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Intel 曾說過他們家的 10nm SuperFin 製程在效能和電晶體密度上的表現,等同於現在晶圓代工廠商的 7nm 製程,互不相讓,大概因為如此,Intel 想要為自家的製程節點以正視聽,數字上不能落後。

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Intel 這次更改製程節點命名不以奈米進展為名稱,而是採用新的命名模式,如 10nm Enhanced SuperFin 已更名為 Intel 7,後面更新的製程則為 Intel 4、Intel 3、Intel 20A。

Intel 10nm Enhanced SuperFin 相比前一代的 Intel SuperFin 相比,每瓦效能提高10~15%,這個製程也將用於 Alder Lake 以及 Sapphire Rapids 架構處理器。

Intel 4 是 Intel 之前所稱的 7nm 製程節點,Intel 聲稱每瓦性能比 Intel 7 提高 20%。該節點將使用 EUV 光刻。首批採用 Intel 4 的產品是於 2021 年第二季的 Meteor Lake 和 Granite Rapids 架構。

2023 年下半年,Intel 將推出其 Intel 3 節點。該節點將提供18%的每瓦效能增益,並且具有更密集的 HP library 以及增加 EUV 的使用,增加固有驅動電流。

Intel 20A 節點將在 2024 年上半年開始提供,A代表埃 angstrom,1A=0.1奈米。該節點將引入一種新的晶體管架構,稱為 RibbonFET 和 PowerVia 互連,不過目前 Intel 未確認哪個產品將使用 Intel 20A 節點。






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dogkoon

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以後應該要以晶片的電晶體密度來看製程,號稱的幾奈米已經沒有意義。
 
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